富士機械製造と名大、超高密度大気圧プラズマ装置を開発

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【名古屋】富士機械製造は名古屋大学と、電子基板などの表面洗浄・改質に使う超高密度大気圧プラズマ装置を共同開発した。放電状態のプラズマ発生方法を工夫し、従来の装置より１０００倍以上の超高密度を実現。高速処理が可能となり、今後商品化する。
　超高密度プラズマ装置は大気圧下でプラズマを生成するため、減圧装置が不要で、通常装置に比べ生産ラインに組み込みやすい。実証試験では、一立方センチメートル当たりのプラズマの量が２×１０の１６乗以上と高密度にできた。
　またプラズマの照射部分の機構を工夫し、４０ミリメートル幅と従来機より幅広い面積を一度に表面処理できる。照射時間を減らし、処理効率を高められる。さらに照射するガスの温度を低くできるため、照射する材料への熱の影響を減らせる。
（掲載日 2008年11月28日）
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