「年商１８００億ウォン」半導体技術海外流出、元幹部が逮捕

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ソウル中央地検先端犯罪捜査１部（部長イ・ヒョク）は、国内半導体技術を海外競争会社に流した疑い（不正競争防止法違反など）で半導体専門企業Ｋ社の元製造技術部長のペ某容疑者（４９）を逮捕したと１３日、明らかにした。

現在、台湾系半導体企業であるＡ社の中国工場マネジャーとして働くペ容疑者は、３月、Ｋ社中国工場従業員を通じて製品の設計図面を電子メールで受けとるなど２００７年から最近までＫ社の営業秘密が含まれた資料５０件をＡ社に渡した疑いがもたれている。

検察によるとペ容疑者は２００７年末１８余年間勤務したＫ社を退社しＡ社に常務級で入社した。ペ容疑者はＡ社に入社した際、Ｋ社で働きながら取得した資料を持ちだし、その後、Ｋ社職員たちと接触して営業秘密を抜き取ったということだ。

Ｋ社は「非メモリー半導体（情報処理を目的に製作された半導体）」分野で国内最高の技術を保有する企業として評価を受けているという。ペ容疑者が持ち出した技術の中には年商１８００億ウォン（約１３５億円）の利益をあげる小型トランジスタ技術も含まれている。

検察関係者は「流出された技術の中にＫ社売上額の６０％を占める小型化したトランジスタの技術があり、売上損失が予想される」と説明した。
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